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試料作製装置

真空蒸着装置

汎用の真空蒸着装置です。

真空ポンプは油回転ポンプと油拡散ポンプ＋液体窒素トラップで、 到達真空度は 8x10-7 Torr です。 蒸発源は通電加熱型のボートもしくはフィラメントで、 3 種類の蒸発源を真空を破らずに使い分けることができます。 水晶振動子型膜厚計を備えています。

基板はハロゲンランプにて、室温から 400℃程度までの加熱が可能です。 通常のスライドガラス (76x26) の大きさの基板二つに同時に蒸着できます。

スパッタ製膜装置

マグネトロンスパッタリング装置です。

ねじ溝併用式のターボ分子ポンプ (大阪真空 TG 200) にて、 5x10-7 Torr 程度まで排気できるようになっています。 マスフローコントローラを Ar と O2 の２ライン備えており、 酸素を用いた反応性スパッタリング製膜が可能です。

ターゲットに印可する電力は、 RF 電源 (東京ハイパワー: RF 300) と DC 電源 (Advanced Energy: MDX-1.5k) とから選択できます。

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