なかのにっき

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2005年09月08日(木) [n年日記]

#1 [paper] 今日拾った論文 (JAP 98(3))

(まだたくさん残ってるから) 抑え気味にしてるせいかもしれんがあんま当たらんかったので、 拾うだけのつもりだったけど目を通すまで。

Study of the sputtered Cu atoms and Cu+ ions in a hollow cathode glow discharge using a hybrid model:

uio の Baguer さん & Bogaerts さんの。 これはホローカソードランプのシミュレーション。 条件は 0.3〜1.0 Torr とかなり高圧。 ここではガス圧の分布まではなし。Cu neutral/ion の分布まで。

Nucleation and growth kinetics of spiral steps on TiN(111): An in situ low-energy electron microscopy study:

TiN 表面での spiral 状の step 成長と 2D island の消滅過程とを LEEM で in-situ 観察した話。まあ adatom migrateion とかそのへん。窒化物でってのは珍しいかも。 UBM スパッタ→UHV 中で反応性蒸着。

#2 帰り

原付。明日からはまた暑さが戻るのだろうか?

#3 行き

原付。快晴。気温上昇中。

#4 [labo] VP 訪問

10:30〜11:30。真空展でもらった諸々パンフ渡し、装置の試料導入部検討、 技術コンサルの件。

#5 [URL] 捨てた自作PCはどこへ行く?---パーツ再資源化の現場からフォトレポート

いつか使わなければならないのでメモ。

#6 ドラゴン桜

撮影してたらしい。ほー。

#7 [iPod] 9/7 の apple 発表

てんこうさんのとこ から。 おお、確かに薄いなあ > nano

ま、それはそれとして G3 iPod のバッテリーはやはり買っておくか(笑)

結局秋葉原へは当面行けそうにないので、在庫が復活していた PDA 工房 から。

#8 [dept] 物情実験

Planck 定数の実験装置が不調なので、 来年購入予定のものを前倒しで買えないか、 見積をアツベ・ダイキに依頼。

#9 [labo] 実験

XPS の calibration。 スパッタ装置は基板交換とベーキングまで。

どうもスパッタ装置の圧力が下がらず、 二度開けて蓋のところをチェック。 結局 O リングにアピエゾンを塗布、 あとアルミ蓋のシール面に入っていたキズを油砥石で落としたら なんとかなった模様。排気して明日午前にベーキングの方向で。

#10 [URL] TeX Wiki: BibTeX 関連ツール

日本語が通れば RefDB / BibORB あたりがいいのかなあ。 screenshot が見てみたいところだが。

#11 接骨院

往復。

#12 [labo] XPS イオン銃位置合わせ

Ag 2d5/2 (268.3eV) を基準に WF は 3.9eV へ。XPS データは 2005Calib/20050908/
  1. survey as inserted
  2. survey after 30s Ar sputter @ 3kV max raster
  3. survey after another 30s Ar sputter @ 3kV max raster
  4. Ag peak 周辺。368.5eV にピーク
  5. WF を修正して再度 Ag peak 周辺。368.3eV にピーク
align は hole 中/外 で 30〜50/120〜140 なので合格だろう。

ion max:

B.E.	CL	OL	PosX	PosY	ion	target
4kV	297	370	+2.2	+1.1	173 nA	3.46uA
3kV	343	358	-0.1	+0.9	111 nA	1.53uA
2kV	360	393	+0.8	+2.0	64.4nA	0.97uA
1kV	441	471	+1.2	+4.0	17.8nA	0.42uA

target max:

ion の BNC は short ではなく open。 PosX, Y は ion のときから動かしていないだけ。
B.E.	CL	OL	PosX	PosY	ion	target
4kV	239	500	+2.2	+1.1	-	7.48uA
3kV	258	500	-0.1	+0.9	-	4.90uA
2kV	274	500	+0.8	+2.0	-	2.47uA
1kV	347	500	+1.2	+4.0	-	0.93uA

#13 [paper] 今日拾った論文2 (RSI 76(8))

Compact and transferable threefold evaporator for molecular beam epitaxy in ultrahigh vacuum:

70 の CF フランジに取り付け可能な UHV 蒸発源。 EB 1, 抵抗加熱 2, 水冷シールド付き。

Surface preparation of hard ionic crystals by ultrahigh vacuum cleavage:

UHV 対応の硬い結晶用劈開デバイス。論文での sample は MgO だけど、LiF, NiO, ZnO あたりもいけるだろうとのこと。

Reciprocal space mapping by spot profile analyzing low energy electron diffraction:

SPLEED の評価アルゴリズム。逆空間像の解析例として、どこぞに使えるかも。

Diode calibration of a Langmuir probe system for measurement of electron energy distribution functions in a plasma:

L-probe で low energy plasma の EEDF 測るときの I-V の calibration 用途に ダイオード・抵抗・電源のシリアルを使おうという話。 測定器の distortion も考慮せなあかんので、広い範囲の I-V ちゃんと使わんと、 ということらしいが。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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