なかのにっき
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#1
[paper] 今日拾った論文 (JAP 98(3))
(まだたくさん残ってるから)
抑え気味にしてるせいかもしれんがあんま当たらんかったので、
拾うだけのつもりだったけど目を通すまで。
uio の Baguer さん & Bogaerts さんの。
これはホローカソードランプのシミュレーション。
条件は 0.3〜1.0 Torr とかなり高圧。
ここではガス圧の分布まではなし。Cu neutral/ion の分布まで。
TiN 表面での spiral 状の step 成長と 2D island の消滅過程とを LEEM で in-situ 観察した話。まあ adatom migrateion とかそのへん。窒化物でってのは珍しいかも。
UBM スパッタ→UHV 中で反応性蒸着。
原付。明日からはまた暑さが戻るのだろうか?
原付。快晴。気温上昇中。
10:30〜11:30。真空展でもらった諸々パンフ渡し、装置の試料導入部検討、
技術コンサルの件。
いつか使わなければならないのでメモ。
撮影してたらしい。ほー。
#7
[iPod] 9/7 の apple 発表
てんこうさんのとこ
から。
おお、確かに薄いなあ > nano
ま、それはそれとして G3 iPod のバッテリーはやはり買っておくか(笑)
結局秋葉原へは当面行けそうにないので、在庫が復活していた
PDA 工房
から。
Planck 定数の実験装置が不調なので、
来年購入予定のものを前倒しで買えないか、
見積をアツベ・ダイキに依頼。
XPS の calibration。
スパッタ装置は基板交換とベーキングまで。
どうもスパッタ装置の圧力が下がらず、
二度開けて蓋のところをチェック。
結局 O リングにアピエゾンを塗布、
あとアルミ蓋のシール面に入っていたキズを油砥石で落としたら
なんとかなった模様。排気して明日午前にベーキングの方向で。
日本語が通れば RefDB / BibORB あたりがいいのかなあ。
screenshot が見てみたいところだが。
往復。
#12
[labo] XPS イオン銃位置合わせ
Ag 2d5/2 (268.3eV) を基準に WF は 3.9eV へ。XPS データは
2005Calib/20050908/
- survey as inserted
- survey after 30s Ar sputter @ 3kV max raster
- survey after another 30s Ar sputter @ 3kV max raster
- Ag peak 周辺。368.5eV にピーク
- WF を修正して再度 Ag peak 周辺。368.3eV にピーク
align は hole 中/外 で 30〜50/120〜140 なので合格だろう。
@
ion max:
B.E. CL OL PosX PosY ion target
4kV 297 370 +2.2 +1.1 173 nA 3.46uA
3kV 343 358 -0.1 +0.9 111 nA 1.53uA
2kV 360 393 +0.8 +2.0 64.4nA 0.97uA
1kV 441 471 +1.2 +4.0 17.8nA 0.42uA
@
target max:
ion の BNC は short ではなく open。
PosX, Y は ion のときから動かしていないだけ。
B.E. CL OL PosX PosY ion target
4kV 239 500 +2.2 +1.1 - 7.48uA
3kV 258 500 -0.1 +0.9 - 4.90uA
2kV 274 500 +0.8 +2.0 - 2.47uA
1kV 347 500 +1.2 +4.0 - 0.93uA
#13
[paper] 今日拾った論文2 (RSI 76(8))
70 の CF フランジに取り付け可能な UHV 蒸発源。
EB 1, 抵抗加熱 2, 水冷シールド付き。
UHV 対応の硬い結晶用劈開デバイス。論文での sample は MgO だけど、LiF, NiO, ZnO あたりもいけるだろうとのこと。
SPLEED の評価アルゴリズム。逆空間像の解析例として、どこぞに使えるかも。
L-probe で low energy plasma の EEDF 測るときの I-V の calibration 用途に
ダイオード・抵抗・電源のシリアルを使おうという話。
測定器の distortion も考慮せなあかんので、広い範囲の I-V ちゃんと使わんと、
ということらしいが。
以上、1 日分です。
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