なかのにっき

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2006年12月05日(火) [n年日記]

#1 帰り

原付。凄く寒くなった。満月(?)の高度が高く、建物を出た瞬間に思わず見惚れた。

#2 Plagger0.7.1[56]

日記を 1 秒単位で 10 回ほど一気に get してくのは、 なんかのバグなんだろうか?
あー、ひょっとして rss 見て一気にエントリ取りに来てるのか? rss.cgi へのアクセスはないようだ。

#3 行き

原付。晴れ。しかしもう冬だな。

#4 [dept] 物生実験第二

立ち上がりがちょっとルーズになっている気がする。

17:00 ちょい過ぎに無事終了。

#5 [labo] 西川電子部品

もう fix しちゃったから関係ないけど、 納期 2 ヶ月とかいう fax が戻ってきた。 ここはだめだな。

#6 [labo] アルミパネル

工作室に持ってったら佐藤さんがシアーカッターでさっくり切ってくれた。 ありがたや。この手の材料屋さんとして、 港鋼材 (048-281-4372) を教えていただく。 工作室に預ってもらえばいいよ、とのこと。

#7 [paper] 今日拾った論文 (TSF 514(1-2))

Multi-technique characterization of tantalum oxynitride films prepared by reactive direct current magnetron sputtering:

Wuttig 先生のところで TaON。RBS, XPS, XRD, XRR, 分光測定、分光エリプソ。 屈折率約 2.5、BG は 2.5eV 以上なので可視域では透明。圧縮応力。

Single crystal CrN/ScN superlattice soft X-ray mirrors: Epitaxial growth, structure, and properties:

MgO 基板上への CrN/ScN 多層膜のエピ成長。 プラズマ・基板バイアスを変えて入射イオンエネルギー制御を意図した製膜をしている…が、スパッタか plasma assisted MBE なのか abstract ではわからんな。 keywords には reactive magnetron sputtering って書いてあるからそうなのか? なら拾っといても良いかも。

Correlation of elastic modulus, hardness and density for sputtered TiAlBN thin films:

TiAl, TiB2 各ターゲットからの反応性 co-sputter で作った膜で、 composition と hardness, 弾性率などの相関を見た話らしい。

Electrochemical behavior of single layer CrN, TiN, TiAlN coatings and nanolayered TiAlN/CrN multilayer coatings prepared by reactive direct current magnetron sputtering:

reactive DC で作った各膜の corrosion 特性。3% NaCl 中での potentiodynamic plarization と electrochemical impedance spectroscopy。

Shear mode coupling and properties dispersion in 8 GHz range AlN thin film bulk acoustic wave (BAW) resonator:

ISSP に来る Martin さんの AlN BAW resonator の話。

#8 [改訂第4版] LATEX2ε美文書作成入門

3 版は飛ばしちゃったけど、4 版は買っておこうかな。

#9 [URL] Smarter

kakaku.com みたいなの。アルミ板をググっていて引っかかった。 意外に使えるかも。

#10 Google Calendar

mixi の Google Calendar コミュニティに携帯用 cgi を発見。 とりあえずコミュに参加してみた。

Google Calendar の携帯用プログラム公開:

こちららしい。すばらしい。 自分のところに入れてみたが、calendar.cgi に行くとこで携帯からだと
Wed Dec  6 01:20:29 2006] [error] [client 218.222.1.170] Premature end of script headers: /home/nakano/public_html/gcm/calendar.cgi
        from calendar.cgi:18
        from ./encrypt.rb:22:in `decrypt'
./encrypt.rb:22:in `final': wrong final block length (OpenSSL::CipherError)
が出るなあ。うーん。

#11 [labo] 論文輪講

風邪で 3 名ほど休み。 飯村くんが Eliminating the hysteresis effect for reactive sputtering processes をかけてくれた。 電流を一定にしといてターゲット面積を小さくするとヒステリシスが緩和されるという話。 なるほど。これ自分の survey からは抜けてたみたいだなあ。 このとき か。あー、もしかして gmail で末尾が clip されてたときのかも…

#12 [labo] Al スパッタ装置

つうことで 柴田くんにケーブル他を買ってきてもらった。 千石では店頭に出てないのが結局裏にあったりとか、 結構大変だったらしい。どもども。

つうことで加工したパネルを使って本格的に電源周りの整備…完了。ふう。 一応引いていたのだが、炊いてみる元気は尽きたので明日回し。

#13 [paper] 今日拾った論文2 (APL 89(2), PRL 97(2))

PRL は今回も no hit。ダメカナ?

Visualization of the complex refractive index of a conductor by frustrated total internal reflection:

Otto 配置な ATR で金属面の複素屈折率を決める方法として、 gap と angle を操作しつつ minimum を探す方法があるそうな。 ここでは三角プリズムの coupling 面に spherical なのを追加し、 gap を空間連続的に変えて CCD image で決めちまおう、というアイデア。

Mapping substrate/film adhesion with contact-resonance-frequency atomic force microscopy:

Si 上 Au に、Ti を挟んだのと挟まないのとで、 contact-resonance-frequency AFM の周波数の変化から、 void があるというモデルで contactstiffiness に計算しなおした話。

Low-temperature solid-phase crystallization of amorphous silicon thin films deposited by rf magnetron sputtering with substrate bias:

スパッタで付けた a-Si 膜を炉で焼いて結晶化するとき、 内部の応力でその過程が変わる、という議論を受け、 製膜時の基板に rf バイアスをかけてみた話。 まあ XRD の結果を見ると positive みたいではある。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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