時期が入り交じってるが気にしない方向で。
原研の Ge γ線検知器 array を液体窒素の冷却機構の無人化の話。
ここまで大がかりな仕組みはそうそう必要にはならんとは思うが、
参考までに。
厚さあたり保持できる電圧は厚さの√に比例 (
ref2
)、というのを受けて、
metal と dielectric の多層構造からなる絶縁体が良い性能を示すのでは、
というアイデアがあるそうで (high gradient insulator というらしい)。
ただ予想通りの performance が出ないので、
breakdown が surface flashover と metal 間の vacuum arc であると考えてみた
モデルをベースに考察してみた話。
インドのグループ。軸対称型のマグネトロン装置を対象に、Ti ターゲットに
Ar+N2 を入れたときのプラズマポテンシャル、EEDF、OES などを取った結果。
N2 は Ar より電離しにくく、プラズマ密度・ターゲット電流が低下、
プラズマ温度は微増、FP は低下 [なんでだろ?]、などの結果。
ただプラズマの話だからか、流量を気にせず分圧のみの話にしていたのが微妙か。
装置図を見る限り圧力モニタはペニングゲージだけみたいだしなあ。
MD シミュレーションで、Si(001) に 500〜900eV の Ar を当てたときの
adatom の発生を評価した話。adatom, sputtered, addimer のほか、
配位数が大きいけど energy も高い、という種類の粒子が多く発生している。
これは計算の framework の問題だろうか。
dog bone のポリイミドに膜厚の違う Cu や Al の膜を付け、
繰り返し stress テストで抵抗変化から膜の crack 生成成長を見た話。
stress の大きさと破壊に至る繰り返し回数は
Coffin-Manson の関係に従い、厚い方が早く壊れて exponent も急、という結果など。
化学エッチで荒らした表面を 16.7 keV の斜め入射 O2+ で叩き、
ripple 波長や自己相関長が initial roubhness に positive な相関を持つ、
という結果を示した話。スパッタ率の傾斜依存性などと絡めた議論。
GLAD での porosity / growth rate を幾何学的に計算し、実測と比較した話。
SiO2, ITO で比較的良い一致。
SiO と Mg の powder を混ぜて Ar 中で加熱すると、
F+ center によって着色した MgO パウダーができ、
そいつが PL 発行を示したとのこと。
PL の励起光強度依存性を取ってみたところ、
レーザー発振の媒体として有効ではないか、と。
ポリイミド上に CIGS ベースの太陽電池を作るとき、
PI フィルムの直上、Mo の back contact の下に、
ソーダライムガラスを 200nm スパッタでつけると、
アルカリのドーピングになって cell のパフォーマンスが上がる、という話。