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ここ数年、スパッタリング製膜において、RFコイルをターゲットとは別に用意するなどして、スパッタ粒子をイオン化し、トレンチフィリングや膜質を改善しようとする試みが注目されています。

また、これは報告の最後でご説明しますが、我々が以前行った、 スパッタリングプラズマからの発光測定において、 スパッタ粒子からの発光が、他の粒子自身によって再び吸収されてしまうような現象が観測されました。

これらを動機としまして、スパッタされた粒子が、空間にどのくらい留まり、粒子の空間密度がどのくらいの値になるのかを、モンテカルロシミュレーションを適用して計算してみました。