なかのにっき

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[n年日記]

行き

原付。家から電話して相原ネジで M3 のナベを get。

[labo] 新スパッタ

14:30 からベーク。 16:30 まで。 17:00 から水冷。O のラインの減圧弁は full close にならない (前も書いた気がするが)。
18:30 に点火。MV full close の 5.75 Pa→3 Pa→full open の 0.61 Pa で 30 分ずつ飛ばしてみた。21:00 に停止。

[labo] ネジ洗い

洗う方を分ける方が結局楽だということにいまさら気付く。
2×2 回でオーブンへ。

[paper] 今日拾った論文 (APEX 1(1-2))

今後はこれも RSS で読む。

＠ High Mobility Titanium-Doped In2O3 Thin Films Prepared by Sputtering/Post-Annealing Technique:

青学の中田先生のところ。Ti ドープの酸化スズが真空中ポストアニール (@530度) で高易動度 (～100 cm^2/Vs)・低抵抗 (2E-4) 化するというもの (製膜時の基板温度も高いけど)。キャリヤが少ないので、赤外での透過もかなり良い。

＠ Molecular Layer-by-Layer Growth of C60 Thin Films by Continuous-Wave Infrared Laser Deposition:

東工大の松本先生たちのグループ。蒸発源を IR レーザの連続照射 (980nm, 6～9 W/cm^2) にすると、L by L 成長を示唆する RHEED 振動が見られる、というもの (XTD でも単結晶っぽい回折)。

ヨドバシでポイントを使い切るための考察

年度内に校費で買ったポイントを使い切った方が気分が良くなる気がしてきたので、ちょっと計算してみる試み。

購入品の価格: B
購入品の還元率: r (%)
現在の手持ちのポイント: Pc
今回使うポイント: Pu

とすると

(B - Pu) * r/100 = Pu - Pc

にすればいいから、

Pu = r/(100+r) * B + 100/(100+r) Pc

か。

ICCG7 registration

した。一応 15-19 の宿泊にしてみた。EUR 100 / night は高いけど、会場だし近隣のホテルからの足も無いようなので。レンタカー借りて頑張るのは本末転倒だしなあ。
confirmation mail は +misc/5023。

日経 MICRODEVICES 3 月号

FPD 用 Cu 層の密着力向上に、易酸化金属をまぜ、酸化雰囲気で製膜する話が載っていた。アルバック。

この雑誌、申し込んでないのに昨年から送ってきていただいているのだが、どちらのご厚意か良く理解していない(^_^;。すみません。結構購読料高い雑誌だけど。

[paper] 今日拾った論文 (PRL 99(10-11), APL 91(10-11), JAP 102(5))

なかのにっき

2008年03月05日(水) [n年日記]

#1 行き

#2 [labo] 新スパッタ

#3 [labo] ネジ洗い

#4 [paper] 今日拾った論文 (APEX 1(1-2))

＠ High Mobility Titanium-Doped In2O3 Thin Films Prepared by Sputtering/Post-Annealing Technique:

＠ Molecular Layer-by-Layer Growth of C60 Thin Films by Continuous-Wave Infrared Laser Deposition:

#5 ヨドバシでポイントを使い切るための考察

#6 ICCG7 registration

#7 日経 MICRODEVICES 3 月号

#8 [paper] 今日拾った論文 (PRL 99(10-11), APL 91(10-11), JAP 102(5))

＠ Surfactant-Mediated Growth Revisited:

＠ Influence of random roughness on the adhesion between metal surfaces due to capillary condensation:

＠ Size dependence of Si 2p core-level shift at Si nanocrystal/SiO2 interfaces:

＠ Influence of elastic scattering of photoelectrons on angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy:

＠ High performance thin film transistors with cosputtered amorphous indium gallium zinc oxide channel:

＠ On the physics of moisture-induced cracking in metal-glass (copper-silica) interfaces:

＠ Oxidation of silicon: Further tests for the interfacial silicon emission model:

#9 帰り

#10 めし

#11 [labo] RG-59/u の N 型プラグ

#12 今日の英会話上級