なかのにっき

昨日解いたやつを TeX に起こしてアナウンスしてみるテスト。

実は解答はあったらしい (苦笑)。でもどうせ自分で一度解かないといかんもんだから、まあいいか。

予想通り苦戦。まあ最終的にできない、となったらそれはそれでしょうがないが、できるだけ頑張る方向で。

boss と相談、一度またお話を伺えないか、北住さんにメールしてみる。

おお菊地さんだ。

7 月分。順調に遅れている…orz

＠ RSI: A miniature effusion cell for the vacuum deposition of organic solids with low vapor pressures in surface science studies:

4 ピンの電流導入端子に作った有機材料用の蒸発源。蒸発温度が低いので、ベーキング中は外しておきたい、というのがミソ。ポリイミドのチューブが支持体になっていて、トランスファーロッドで差し込めるようになっているらしい。なるほど。

＠ APL: A high speed, postprocessing free, quantum random number generator:

InGaAs のアバランシュフォトダイオードに 1.03GHz の矩形波なバイアスをかけ、ゲートが開いてるときの photon count → RNG、ということらしい。信号を split、片方に delay かけて自己差分を取ると、after-pulsing の影響を低減でき、single photon な計測ができるそうで。

＠ JAP: Effects of substrate bias on the preferred orientation, phase transition and mechanical properties for NbN films grown by direct current reactive magnetron sputtering:

bp 2E-4 Pa、0.8 Pa、Ar 60 sccm, N2 15sccm な環境で dc スパッタ (パワーはいくつ？)、bias を float～-200 V として、できた膜の応力をを測り、回折→優先配向と結晶相の変化を compliance energy から考察した話。

＠ JVSTA: Low energy secondary ion mass spectrometry with sub-keV O2+ beams at glancing incidence:

250～500 eV の O2 イオンを 80 deg で B-doped Si や Si/SiGe に当て、 depth resolution について評価した話。変性層ができて拡散を阻害するとか、 B の場合は BO2 が形成されて shallow profile に向いてる、とかそのへん。

午前に滝沢先生と本郷先生、午後に栗林先生と長名先生、に来研いただく。若くてバリバリな感じのお二人でした。

UHV SP のマグネット交換をしていただく。やはり藻がだめか。むー。

学生実験用の試しに 100/500Ωのヘリポット、あと蒸着装置のリレーを見ていただき、交換部品の手当てをお願いした。

ヘリポットを使ってテスト。しかし 10～100uA の領域で I-V が安定しない。やっぱり非線形のものだから (かつ出力の内部抵抗が高いから)？

しょうがないので従来のレギュレータ電源を 4 台購入の方向で。高城さんにメール。間に合うかな。

1006.8 km 3.37 litter

というか昨日の。
persuative 説得力のある

in a flash あっという間に、即座に
avant-garde アバンギャルドの、前衛的な
make a point of ～ing 必ず～する stake out 貼り込ませる、見張る、杭を立てて仕切る

なかのにっき

2008年09月24日(水) [n年日記]

#1 [dept] 演習準備

#2 [labo] 電顕購入関係

#3 [URL] 光を通し熱を反射する透明シート開発

#4 [paper] Google Reader で拾った論文

＠ RSI: A miniature effusion cell for the vacuum deposition of organic solids with low vapor pressures in surface science studies:

＠ APL: A high speed, postprocessing free, quantum random number generator:

＠ JAP: Effects of substrate bias on the preferred orientation, phase transition and mechanical properties for NbN films grown by direct current reactive magnetron sputtering:

＠ JVSTA: Low energy secondary ion mass spectrometry with sub-keV O2+ beams at glancing incidence:

#5 [dept] 新任の先生方

#6 [labo] VP 出石さん北林さん来研

#7 [labo] AB 高城さん来研

#8 [dept] 学生実験準備

#9 給油

#10 今日の入門ビジネス英語

#11 今日の徹底トレーニング英会話