なかのにっき
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突っ込みは各日付の BBS エントリのほか、
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検索エンジンから来た方は、エンジンの方のキャッシュを見るか、
下の簡易検索を試してみてください。
hns - 日記自動生成システム - Version 2.19.5
原付。ちょっと降った。
原付。また暖かくなったな。花粉もかなり。
駐輪場から管財課に直行して月曜の駐車場利用申請。
メモ。LaTeX で「内側の list の \topsep が 0 に設定されてしまう」問題。
#4
[labo] 絶縁破壊計測システム
とりあえず常用のデスクトップに Visual Studio .net のインストール。VB だけ。
続いてサービスパック。時間がかかる。
Windows Update 経由での ServicePack3 は 0x652 とかいうエラーで失敗。
ふむ。とりあえず放置。
続いて動作のときに使うであろう HP nx6120 にも。
しかしこのデスクトップは測定ファイルだらけでひでえことになってるな。
#6
[paper] 今日拾った論文 (JAP 100(9)
名大のグループ、
アネルバのイオン付着マススペでシリカエッチング用の大気圧プラズマを見た話。
ちょっと酸素を足したり H2O を足したりするとエッチレートが急上昇するそうで、
質量分析によると HF が生成されてるからではないか、とのこと。
液晶の下地に用いるポリイミドをラビングして異方性を持たせ、
プレチルト角との相関をエネルギー的に議論した話。
滝沢研で昔こういうお話をやってたような。
CIGS の分光エリプソ測定から誘電関数のパラメータを決めた
元論文
に対して、極小がそのまま各パラメータを与えるわけではないよ、
という指摘をしたもの。
産総研の仁木先生たちのグループ。
MBE 成長中に 9E-3 Pa 程度の H2O 蒸気を入れると、
PL では Se vacancy 由来の deep donor-acceptor ペアによる
発光が見えなくなった、ということらしい。
実験的には H2O の導入ってどうやるんだろ。
なかなか純度・制度良く入れるのって難しそうな気がするけど…
CuCl ターゲットから rf スパッタで膜を作るとき、
基板バイアスによって組成制御ができたという話。
負バイアスをかけると Cu リッチに。
CL を取ると、ピークの幅自体は Cl リッチな膜が小さいが、
強度はあまり高くなく、やっぱり stoichiometric なのが良い、
という結論 (という割には強度のグラフがないけど)。
SiO2 中 Si の不揮発性メモリ応用に絡めて、
アニーリングした sub oxide や nc Si/SiO2 を
XPS で見た話。ちゃんと読んでないけど、
結論は界面よりも Si のナノサイズそのものが電荷保持に効いてる、
ということらしいが。
#7
食場向上委員会
いつものすず音で今回は 10 名、相変らず美味しい。
19:00〜23:15 くらい。あっという間の 4h であった。
駅までバス、外口さんと電車で国分寺まで、自分はあとは歩き。
以上、1 日分です。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp>
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