なかのにっき

最新版はこちら。 突っ込みは各日付の BBS エントリのほか、 メール (nakano@st.seikei.ac.jp) や フォーム からどうぞ。 なおスパム除けのため、BBS 機能には 緩い認証を入れて います。 検索エンジンから来た方は、エンジンの方のキャッシュを見るか、 下の簡易検索を試してみてください。


hns - 日記自動生成システム - Version 2.19.5

先月 2007年01月 来月
1 2 3 4 5 6
7 8 9 10 11 12 13
14 15 16 17 18 19 20
21 22 23 24 25 26 27
28 29 30 31
Namazu for hns による簡易全文検索
詳しくは 詳細指定/ヘルプを参照して下さい
検索式:

2007年01月01日(月) [n年日記]

#1 あけましておめでとうございます

本年も宜しくお願いします。

#2 元旦

家にビール・酒がないことに気付き、 慌てて武蔵境のセイフーまで車を飛ばしてきたり。 行っといてなんだが、良く開いてるな。

昼に起床、毎年恒例の獅子舞を受けて近所の皆さんとご挨拶。 煮しめ等々を食いすぎで雑煮が入らず。

サッカー天皇杯観戦。地デジの効果を満喫。

貫井神社へ初詣。去年もそうだけど、結構並んでるんだよなあ。

ばんめしを食いつつ筋肉番付を見て本読み。

#3 [book] 『グレート・ギャツビー』フィッツジェラルド作、村上春樹訳

ということで今年初の読了本。 『キャッチャー』はまだ読みかけで放置してあるのに、 こっちはすらすら読めた。

悲劇は偶然によるものだけれど、 その前にあらゆる破局は既に決定的だったという、 哀しい (けれど美しい) 物語。 これも 20 世紀初頭という古さをまったく感じさせない。すごいなあ。

日本語の文章の良さはさすがこの訳者の仕事。 原文も訳者あとがきで (というか村上春樹の書いた雑文のあちらこちらで) 激賞されているので、力 (と時間) があればいつか読みたい。

#4 [book] ブッダの道の歩き方

これはちょっと前からボチボチ読んでいたもの。 どちらかの blog で拾ったんだけど。 スリランカの初期仏教 (小乗系) の長老と立松和平による対談本。 成功している方だとは思うが、 両者の思惑が噛みあっていない部分がちらほら見え隠れしていて、 読んでいて引っかかりを覚えるところもあった。 個人的評価としては可もなく不可もなし、かなあ。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月02日(火) [n年日記]

#1 初夢

放送技術者になっていて、放送画面の解像度が云々、とかいう議論をしていた。 わかりやすすぎ。

#2 1/2

起きてテレビ見て酒飲んで昼寝したりとか。

妹帰る。晩飯にすき焼き→うどん。

年賀状整理。返信 2 枚。

#3 [book] 攻殻機動隊 1 & 2

「こうかくきどうたい」で SKK に登録されているところがなんとも。 それ ぞれ KC デラックスで入手したのを読んだ。 作画的にはものすげえが、ストーリーは少なくとも初読ではワケワカラン。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月03日(水) [n年日記]

#1 初詣2

ゴロゴロばっかりしてるのもなんなので明治神宮へ。 原宿降りてから参拝するまで 1h かかったが、 多分これでも多少は空いてるんだろうな。

#2 Logitech iPod 用スピーカー

着。正直かなり音が良くて驚いた。卓上 (つーか炬燵) に置く用途には最適。

#3 お節料理

そろそろ 賞味 消費期限だろうということで、 遺憾ながら食い残しは明日の燃えるゴミの日に出す方向で。

#4 [firefox] 電網探題: Copy URL +

日本語版にして 2.0.0.* 対応版。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月04日(木) [n年日記]

#1 [book] 新ウェブ・ユーザビリティ 斉藤栄一郎訳 MdN

風呂で一時間で流し読み。内容的にはいつも Alertbox で書かれていることなので、ふむふむと頷きながら読んでいたのだが、 なんか内容が薄いしページのレイアウトが変だなあ、と思っていた、ら。
要するに、この「翻訳書」は、原書の内容をずたずたにして半分以下に削ったもので、「翻訳」ではなく、「抄訳」である。しかもそのことを、どこにも断っていない。この抄訳でも多少の役に立つであろうが、原書はおそらくそれより何十倍もの豊かな内容をもつものに違いない(筆者は未読だが)。ヤコブ・ニールセン氏はこのことをご存じなのだろうか。
というレビューが。うへ、これはひどい。まじかい。 つーことで訳者と出版社をタイトルに書いておくことにする。

ちなみに副題「Web 2.0 時代に〜云々」というのも本文には全く出てこない。 むーん。

ちなみに 原書 。$33 が何故 co.jp だと 8,793 円になる のかも謎…というわけでもないか。定価が $50 だからか。

#2 [book] 竹本泉のいろいろぶっく

就寝前にちまちま読みすすめて読了。ものすごく (分量も内容も) 濃い、 としかいいようがない。『苺タイムス』に覚えのあるファン (つーかマニア) なら must read だが、一般のひとにはおすすめできない。

#3 行き

原付。家で箱買いした volvic がちょうどステップに載った。

#4 [labo] Si 切り

初仕事?伊部くんのやつ。いつものように 15 枚。

#5 [hns] gcal2hns.pl

これ の続編。 Date::ICal は parse 後に内部時間を GMT で持つらしく、 localtime で出力するのが面倒だったので、 あらゆる += 'PT9H' をしてしまったという手抜きも極まれりなスクリプト。 さらに という自分の好みを反映させたので、もう完全にスパゲッティ化した。

まあとりあえずちゃんと動いているみたいなんでいいや。 plagger とか使うともっと楽にできるような気がするのだが…

しかし Tie::iCal はもの凄え ad hoc なデータの持ちかたをするので大変参った。

#6 [debian] hansode.org の Plagger と afbackup は衝突するみたい

上記作業の前に、ちらっと hansode.org から apt-get してみたのだけど、 どうも afserver のテープ change のところで stuck するようになったので ざっくり remove した。 解決したので深追いはせず。すみません。 mt あたりのコマンドが被ったのかなあ。

#7 [paper] 今日拾った論文 (PRL 97(5,6), APL 89(5,6))

リハビリ。去年の 8 月のやつ。うう。

Field effect luminescence from Si nanocrystals obtained by plasma-enhanced chemical vapor deposition:

MOS 構造のゲートに 40nm 厚の Si リッチ SiO2 を付け、 17% excess、N2 中 1250℃ で 1h 焼いたところ、 交番電界による電荷注入でルミネッセンスを示したというお話。 Si 基板の上に付けてるのだが、バンド図に SiO2 層があるのはなぜだろう?

Energy distribution of O- ions during reactive magnetron sputtering:

Schneider さんのところの。こないだ JAP に載ってた話と基本的には同じ。 Al ターゲットの場合に、 pulse DC のターゲット電位の時間で均した分布と EDF を比較。

Residual stress in Si nanocrystals embedded in a SiO2 matrix:

Si/SiO2 をリモートプラズマ CVD 交互に積んだ構造の Raman 散乱による研究。 これは基板は quartz、1100℃ 30s の RTA。 Si 層を薄くすると nc-Si 起源の Raman ピークが計算とは逆にブルーシフトする (というか bulk 側に戻る)。 んでこれを圧縮応力由来と仮定すると 5GPa くらいだけど、ということ。

Field induced photoluminescence quenching and enhancement of CdSe nanocrystals embedded in SiO2:

SiO2 中に分散させた CdSe クラスタの PL。 温度・電場依存性。電場が入ると光らなくなる。 10K, 77K では電場の向きに対して対称だけど、300K では変なかたち。 原因として、電界による電荷注入と、電場によって光励起した exciton が壊れる効果を議論。

Growth of RuO2 nanorods in reactive sputtering:

MOCVD みたいな rod がスパッタでもできるで、という話。 XPS、SEM/TEM、field emission 特性。 3N 4インチの Ru ターゲット、working pressure (全圧か?) は 0.01Torr、 rf 電力 20W、んで O2/Ar を変えて成長。5sccm/10sccm まで行くと rod が見えはじめ、 さらに基板を200→450℃まで上げると faceted な rod 成長になるとのこと。

#8 年賀状

今日もわりと枚数が多かった。 去年までは、おそらく年末ギリギリに投函されたと思しきやつも 大体 3 日までに来ていたのだが、ちょっと遅めな気がする。 これってやっぱり民(ry *1
*1: などと安易に結びつけた議論をしてはイケマセン

#9 帰り

原付。うむ寒い。
早く出たので三鷹北口の うまいごはん屋 で食べてみたのだけど、 横綱屋 のときの方が良かったなあ。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月05日(金) [n年日記]

#1 [firefox] Download Manager Tweak

あれ、2.0 対応版があった。これで大体揃いかな。

#2 [firefox] Resizeable Form Fields

むかしの Resizeable Textarea らしい。

#3 [paper] 今日拾った論文 (nature 445)

Light in tiny holes:

金属膜に開けた subwavelength 孔の光学特性 (異常透過とかフィルタ性能とか) のレビュー。多分読まないけど一応メモ。

#4 行き

原付。晴れて寒い冬らしい日。

#5 [hns] gcal2hns.pl

実際に使ってみてちょっと改造。数日続く予定の入力様式として、 単日の (全日) エントリを daily で repeat する場合と、 通日で入力する場合 (DTSTART と DTEND が別の日になる) とがあるのでそれへ対応。 あと location の周りがちゃんと動作してなかったのを直した。さらにスパゲッティ化。

pdumpfs を考慮し、まあ日に一回の手動実行でいいかな、と。

#6 [firefox] 研究室 PC のも 2.0 へ

というわけで。 extension のページ も現状に合わせて更新。

#7 [paper] 今日拾った論文2 (JAP 100(3), JJAP p1 (7,8A), JMR 21(8))

JJAP p1 の 8B は Microoptics。8A には Photonic 結晶の特集。
ちなみに JJAP の online PDF は IEtab 使うとうまく見えるみたい。 User-Agent 見たりしてるのかなあ。
JMR は生体材料の機械的特性についての特集らしい。拾わなかったけど。

Energy distributions of positive and negative ions during magnetron sputtering of an Al target in Ar/O2 mixtures:

Helmersson さんのところ。rf/dc スパッタで Al2O3 を付けるときに energetic bomb. で構造制御をしようという話が背景。 Hiden の energy analyzer やな。 全圧 0.33 Pa、O2 分圧変えて AlO+、O+, O2+ など。 これらは double peak 構造を持っているように見え (とは言え透過関数が違うので fake の可能性もあり)、 高い方 (〜40eV) はカソード由来だろうと議論。 O- の方では、90eV くらいのとこにピーク。 ターゲットから orifice までは 17cm、 1 Pa くらいでほぼ O- の高エネルギーピークは消えている。

Load-displacement relations for nanoindentation of viscoelastic materials:

粘弾性体 (特に PMMA などのポリマー) のナノインデンテーションのモデル。 粘弾性体の E、ν に対する Burger のモデルといのがあるそうで、 そいつをもとに計算して合わせた話。 実験では loading/unloading 速度を変えて測定し、 流動を考慮した議論をしている。ふーん。

Growth of CuCl thin films by magnetron sputtering for ultraviolet optoelectronic applications:

CuCl ターゲットからのマグネトロンスパッタ。 Ar 1E-3〜1E-2 mbar、T-S 3〜9 cm。XRD、AFM、EDX、カソードルミネッセンス。

Diamond cone arrays with controlled morphologies formed by self-organized selective ions sputtering:

ホットフィラメント CVD で基板に負バイアス (300V) を与えてグロー放電を起こし、 エッチング効果を入れると、Si 基板上にダイアモンドの cone 構造ができるという話。 SEM、Micro Raman、HRTEM。 基板温度は 900℃、 CH4/H2 ratio は 1.5〜5% くらい、 圧力は 5〜30 Torr というところ。

Deposition and Properties of the Pseudobinary Alloy (Al2O3)x(TiO2)1-x and Its Application for Silicon Surface Passivation:

High-k 材料が目標。アルミナは安定してるから、またチタニアは k が大きいから、 両方を混ぜてみよう、ということらしい。 ゾルゲルで作って XPS、RBS、断面 SEM、透過率から光学 gap、CV 測定で誘電率決定、など。

Tracking Single Molecular Diffusion on Glass Substrate Modified with Periodic Ag Nano-architecture:

ガラス基板上に Ag particle による三角格子を 3um のポリスチレン球使ったリソで作り、 蛍光ラベルを付けた脂肪を含む溶液を展開し、ATR の evanescent field による励起で拡散を見た話。おもしろい。

Effects of Processing Variables on Tantalum Nitride by Reactive-Ion-Assisted Magnetron Sputtering Deposition:

TaN、TaWN をイオン銃アシストのスパッタで作った話。 反応性スパッタ的な側面にはあまり注目していないみたいだけど。 hardness、roughness、scratch で付着強度、 Stoney 法で応力、EDS で oxdation resistance、など。 ガンに流す N2 flow の依存性、W を混ぜたときは content 依存性とか。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月06日() [n年日記]

#1 AIP subscription

カードの明細を見てみたら 12/29 付になっていたので 当日のエントリ として追加。
…この分の引き落としは 2 月になるんだが、 経費としては 2006 年分に計上するのでいいのかなあ。

いいらしい 。うーん 2006 年の分はもう足りてるんだけどなー (^_^;

#2 帰り

原付。おお寒い。

#3 [CD] ザ・クロマニヨンズ

遅まきながら。さらに好き勝手にやっていて大変よい。

#4 行き

大雨。バス電車歩き。 吉祥寺弘栄堂でタムール記 1 購入、ABC Mart で靴購入。 靴はまた Rockport、今回は Echo Ridge の Chocolate 色。 早速大学まで歩いてみたが、快適快適。

#5 [paper] 今日拾った論文 (PRL 97(7), APL 89(7), JJAP p2 (33-36), RSI 77(8), Vacuum (11-12))

Vacuum は 5th Intl. Symp. on Appl. Plasma Sci. の proceeding。

Grain Boundary Transitions in Binary Alloys:

合金内部の GB を熱力学的に考察して、 厚さやどのような相 (orderd/disorderd/片方が rich である, etc) などを理論的に導出した話。難しい。

Silicon surface periodic structures produced by plasma flow induced capillary waves:

magnetoplasma compressor という装置で Si(100) 表面に λ〜1um 程度の ripple 構造を作った、という話。錐状の cathode 周囲を anode rod が取り囲んでいる装置に 400Pa の窒素、800uF 4kV のコンデンサバンクからの放電…というプラズマプルームに、 Si を晒すと、表面が解けて ripple 構造ができる、ということらしい。 いまいちどーなってるのか実感が沸かないが…

A Photochemical Process Investigation of Slica Thin Films by an Irradiation from an Ar2* Excimer Lamp:

TEOS から Xe2*(172nm) の UV-CVD で RT 堆積させた SiO2 膜に、 126nm の Ar2* ランプ (1.8mW/cm^2) を照射させて FTIR, XPS の変化を見た話。C が抜けるで、という主張。

RF plasma sheath in an oblique magnetic field:

磁場が傾斜している場合のシースの 1D モデル。 キーワードによると RF シースみたいだけど。

Structural and chemical characteristics of (Ti,Al)N films prepared by ion mixing and vapor deposition:

"ion mixing and vapor deposition" というのは初めて聞いたのだが、 こちら らしい。まあイオンアシスト蒸着のことみたい。

#6 [labo] 真空発表の速報原稿

着手。がんばりましょう。

reference と図を揃えてフッタの書式を整え、 Intro を過去に出した申請書などからパクってきたとこまで。

#7 アドビ ID

Acrobat 8 を買っておくかな、と思って一応取った。メールは +misc/4405。 ID/pass は秘密日記に。
しかし shop の flash な UI がクソ過ぎるので購入はやめ。 業者さんにお願いする方向で。

#8 帰り

バス電車、国分寺から歩き。

#9 ばんめし

豚バラだけ買ってきて、 大晦日におまけしてもらった 野菜・キノコ類を放り込んだ寄せ鍋。 締めのうどんも貰いもので。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月07日() [n年日記]

#1 あさめし

七草粥+餅。これで冷凍にしなかった餅は消費終わり。
ただ毎年思うが、 胃を休めるのが目的の七草粥に餅を入れるのはどうなのだろうか。

#2 行き

原付。晴れたり曇ったり。

#3 応物予稿

飯村くんに発表してもらうことに。今年の申込はギリギリ。これも成長の跡?

#4 [paper] 今日拾った論文 (PRL 97(8), APL 89(8), Vacuum 81(1,2), TSF 515(1))

TSF は SMat2005 の proceeding。 これであとは JVST AB の 24(4) を読めば 8 月までは消化ということに。

What Controls Deposition Rate in Electron-Beam Chemical Vapor Deposition?:

EBCVD というのはあまり馴染みがなかったが、20〜30keV の電子線を照射して、 基板に吸着した分子を分解・堆積させる方法だそうな。 1ステップ (=描画) でナノ構造ができるのではないかと期待されているらしい。 これは成長速度の limit が原料ガスのデリバリーで決まっている、 というアイデアを実験的との比較によって主張したもの。

Comment on "Direct Identification of Critical Clusters in Chemical Vapor Deposition":

Si(111) 上での Ge の臨界核・安定核のサイズについて述べた論文へのコメント。 reply も返ってきている。STM の原子分解能の解釈は難しいつーことで。

Impedance spectroscopy of TiO2 thin films showing resistive switching:

TiO2 の resistive switching を 100-10MHz の周波数領域で調べた話。 27nm の TiO2 層は reactive sputtering で付けた microcrystalline anatase、 上下電極は Pt。 低抵抗相・高抵抗相のいずれでもアドミッタンスの虚部がほぼ同じ周波数特性を持つことから、 相の違いは (現在支持されている) current path (filament) の形成によるものだろう、という結論。

Proposals for producing novel periodic structures on silicon by ion bombardment sputtering:

スパッタされた表面での ripple 構造について、 違う方向から 2 つのビームをあてたり、 衝撃中に基板を回すことによって新しいパターンができる、 というのを提案しているらしい。モデルの話みたい。

Enhanced luminescence from encapsulated silicon nanocrystals in SiO2 with rapid thermal anneal:

Si インプラした SiO2 の焼成による nano-Si の PL。 インプラ濃度、 RTA 処理の有無、アニール時間による blueshift とその saturation より、photoemission は単純な e-h 結合によるものではないのでは、 ということらしい。これは取り寄せてもらおうかな。

Corrosion behaviour of decorative and wear resistant coatings on steel deposited by reactive magnetron sputtering -- Tests and improvements:

TiN, Ti(B,N), CrN, NbN, NbON, (Ti,Mg)N および多層構造 Cr/CrN, Nb.NbN, CrN/NbN, NbN/Nb-C:H などを反応性スパッタで作って HSS 基板の場合について、 塩化ナトリウム中での OC potential measurement で腐食特性を見た話らしい。

Damage buildup in semiconductors bombarded by low-energy ions:

keV オーダーの Ne, Ar で Ge と GeAs を bombard (@RT) したときに、 欠陥導入層の拡大とアモルファス化を調べ、 点欠陥の拡散運動を基にしたモデルとの比較を行ったらしい。

Optical and structural properties of vanadium pentoxide films prepared by d.c. reactive magnetron sputtering:

V2O5 の反応性 DC スパッタ製膜。電気特性は調べてないみたいだけど。

Effect of substrate temperature and bias voltage on the crystallite orientation in RF magnetron sputtered AlN thin films:

RF 反応性スパッタで作った AlN の結晶方位・応力の、基板バイアス・基板温度依存性。 低温や moderate なバイアスでは (002) が育つが、 400℃以上の高温で深いバイアスをかけると (100) になり、 同時に硬さ・応力が増すとのこと。

#5 [paper] Google Reader で拾った論文 (JPD 40, PRB 75)

PRB は月末のまとめ読みが辛いので、IOP 系の雑誌と併せて Google Reader に新着の Alert を受けることにした。いつまで続くかはわからんが…

On the plasma rotation in a straight magnetized filter of a pulsed vacuum arc:

filtered Vacuum Arc depo で問題になっているプラズマの回転を、 straight filter (ってフィルタにはなってないのだが) で調べた話。 実験としてはプロープによる電流・浮遊電位等の測定、 モデルとしては磁場中の電子・イオンの運動方程式からフィルタ内部の構造が再現できる、 という主張。

Comparison of the electronic structure of anatase and rutile TiO2 single-crystal surfaces using resonant photoemission and x-ray absorption spectroscopy:

rutile (110), anatase (101), anatase (001) 表面の光電子分光・X 線吸収分光。 電子状態を調べて catalytic nature の identification をしましょう、 という話らしい。表面欠陥についても。

#6 [labo] 真空発表の速報原稿

書き書き。intro〜experiment + reference で 27 字×33 行の原稿 3 枚ちょいになった。

投稿規定 によれば刷り上がり 3 ページは 9 枚に相当。 先頭ページのタイトルやら abstract やらが max 0.5 ページということで原稿 1.5 枚分、 図が 1 枚 16 行相当×現在 3 枚なので、やっぱり原稿 1.5 枚分。 ということはあと 3 枚弱は書けるということか。

iPod に入れてお持ち帰り。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月08日(月) [n年日記]

#1 帰り

原付。鼻の痛くなる寒さ。今年もこの季節がやってきたか。

#2 デジタル切替工事

J:COM から電話があり、金曜日の午前になった。 ケーブルは D と HDMI のどっち?と聞いたのだが、 要領を得なかったので後にまた電話、とのこと。

D らしい。そうですか。

#3 晴れ

張り切って洗濯するか。

洗濯して掃除した。 買い物行って昼飯食って高校サッカー見て風呂で本読み。 出て仮眠して晩飯食って本読んで終わり。

#4 [book] タムール記 1

読了。それにしてもこの女神、ノリノリで (ry

#5 原稿

書かず。うへへ。
コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月09日(火) [n年日記]

#1 行き

原付。晴れているが寒い。

#2 [labo] XPS 測定

クリスマスに入れた やつ (…)。伊部くんのと田中くんの。 仲田くん、星くんへの lecture を兼ねるかたちで。

測定を終え、田中くんの 2 つをイントロに入れて今日は終了。また明日。

部屋のルータやらせてる Linux マシンで、ファイルシステムが ro マウントされてて dhcpd が動いてなかった。fsck したら一応復旧はしたみたいだけど、 読めないノードがちらほら。そろそろ disk の寿命だろうか。

#3 [vsj] 校正刷り

事務室ポストへの配達が再開されたので拾いに行ったら、 1 月号に載る予定のやつが 2 本。これは急がなければ。

完了。さすがに review だと reference の再チェックが大変に面倒だった。 行末のハイフンが入っちゃったりとか、 印刷頁から原稿起こしてもらうとめんどいのお。

#4 [labo] 発注記録

エビサワにサンプル管瓶とスチロールケース。 あと小降りのカートリッジフィルタがアズワンで入手できるみたいなので、 真空炉用にちょっと query。いまのホースのサイズに合うやつがラインアップには無いみたいなのだが…

#5 [paper] 今日拾った論文 (JVSTA 24(4))

52nd AVS の papers を含む。多いよ…

Modeling of dc magnetron plasma for sputtering: Transport of sputtered copper atoms:

真壁先生のところ。いつぞや応物で発表されていたやつかな? 電子には PIC-MC、ion には continuos なモデルで plasma を解き、 Ar+ の flux を導出。 ejection energy は ref22 の Kenmotsu モデル、方向は cosine law。 スパッタ率の energy 依存性の典拠は特になし? あと、(個人的には重要だと思ってる) 衝突減速の部分が あまりしっかりやられていないような… というのは発表のときの感想と同じ。

Hysteresis behavior during reactive magnetron sputtering of Al2O3 using a rotating cylindrical magnetron:

回転カソードの反応性スパッタの話。 これは このとき に飯村くんが輪講にかけてくれたやつ。 Buyle さんが AVS でも続きの話をしていたような。

Process optimization for the sputter deposition of molybdenum thin films as electrode for AlN thin films:

FBAR 用電極の最適化という割と泥くさい話。 power を 500-1500W (ターゲットは 200mmφ)、温度を RT-400℃、圧力を 0.4-1.6 Pa、Ar flow を 10-40sccm の範囲で、MODDE 7 という、たぶん実験計画法のソフトで 13 個の条件を作って調べている。 結果として特にどうだということはないみたいだけどなあ。

Working pressure induced structural and mechanical properties of nanoscale ZrN/W2N multilayered coatings:

マグネトロンスパッタ、2 カソードに基板を回すかたちで多層膜を作っている。 流量は Ar 50sccm、N2 10sccm で固定、全圧を 0.6-1.4 Pa と変え、 (小角散乱含む) XRD と AES の測定をした話。 これもあまり圧力の違いが表には出てないかな。「どれも良かった」という結果。 ちなみに b.p. は 2E-4 Pa、AES での O については言及なし。

Effect of oxygen incorporation on structural and properties of Ti-Si-N nanocomposite coatings deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering:

TiN に Cl をインプラすると摩擦係数が下がる、 という結果を受けて O を混ぜてみよう、という話。 ターゲットは 133x330 mm^2、7A 電流一定、Ar は 18sccm で一定、O は 0〜30sccm、 N は Ti OES を一定にするように制御。b.p. は 2E-4 Pa、製膜時は 0.16 Pa。 まあやっぱり O flow が 0 のときも 10% くらいの O content が EDX で見えてますな。 Hardness、XPS peak shift、Friction Coeff、耐摩耗特性。 まあ確かにちょっと酸素を混ぜると良くなっているようではある。

Evolution of film temperature during magnetron sputtering:

SungKyunKwan U. の Shaginyan さん、Han 先生。 Musil さんも著者に入っている。共同研究してたのか。 これは ISSP2005 で放してたやつっぽいなあ。 Cr と Cu の magnetron から 70mm 離れた基板の温度を TC と赤外カメラで測っている。放電電流は 0.2-1 A、動作圧力は 0.2 Pa。 表面だけ 300℃くらいになっとるんやでー (Hot Thin Surface Layer: HTSL) という主張。

Gallium nitride thin films deposited by radio-frequency magnetron sputtering:

bp 2E-6 Torr、powder の GaN から RF スパッタ、流量は 5-358sccm、 圧力は 0.59-200 mTorr、bp は 2E-6 Torr。XRD、分光測定から BG、 組成は ESCA。酸素については言及なし。 基板の負バイアスによる N の sputter removal、amorphization が議論の軸だが、 ちょっと単純化しすぎではないかと思わなくもない。

Effect of grain orientation on tantalum magnetron sputtering yield:

溶融させて巨大なグレインを含む Ta インゴットから切り出したターゲットを、 2.7 Pa 100W で 1.5h 叩き (voltage は 500V〜400V)、 結晶方位と erosion 深さを測ってスパッタ率を求めた話。 (011) が最大、(111) が最小。 channeling にはエネルギーが低いので、 表面の free atom 密度に関連してるのでは、ということらしい。

Sputtering pressure dependent photocatalytic properties of TiO2 thin films:

Toyama-U, KIST。圧力を 0.2〜5 Pa、ガスは Ar:O2=8:2、T-S を 40mm, 70mm と変えて、 XRD、光学バンドギャップ、メタノール分解の実験をした話。 低圧・近距離のやつの成績が良かったらしい。 表面が荒れているから、という議論だが。

Particle-in-cell simulations of planar and cylindrical Langmuir probes: Floating potential and ion saturation current:

Pohang の Lee 先生。 Langmuir プローブ特性の PIC-MC による評価。 collisionless 領域では、 orbital motion limited, Allen-Boyd-Reynolds, Bernstein-Rabinowitz-Lafamboise の 3 つとの比較をしている。それぞれ ion 起動の効果の over/under estimation があるで、とのこと。 高圧の collisional 領域では、Tichy らによる理論と比較的良く一致すると のこと。いやこれは凄い。

TiN and TiO2:Nb thin film preparation using hollow cathode sputtering with application to solar cells:

CIGS の backcontact/transparent electrode に使うんだそうな。ふーん。 両方を使って cell にしたというわけではなく、後者は a-Si の cell で SnO2 と使ってごにょにょ、ということになっている。

Inhomogeneous rarefaction of the process gas in a direct current magnetron sputtering system:

Dew 先生のところ。MC 計算。Ar, Ne, Kr に Al, Ag, W の金属で。 思い方が "wind" の効果が強く、圧力が高い方が温度上昇は大きい。 Drusedau さんの実験結果 と良く合うよ、とのこと。 対流も効果があるかも、ということらしいが、この圧力領域でそんな効くのかしら?

Effect of substrate material and bias on properties of TiN films deposited in the hybrid plasma reactor:

Bardos さん、Barankova さんのところ。 hollow cathode と ECR の hybrid 装置で、主としてバイアスの効果について。 bombard による基板温度上昇、XRD の配向など。 磁性体を基板ホルダに使うとどうなるのか、 という motivation があったようだが、 それはあまり議論されていないような。

#6 [receipt] 表面技術協会 12,000 円

コメント [全部読む/投稿する]

2007年01月10日(水) [n年日記]

#1 帰り

原付。さむい。武蔵野郵便局の夜間窓口で校正結果の簡易書留を発送。

#2 行き

原付。良く晴れているが寒い、ありがちな冬の日。

#3 [labo] XPS lecture

今日からは実習編。しかしイントロ棒を引き抜くところでリークして圧力上昇。むー。 -9 乗 Torr 台に復帰するまで待ちましょう、ということに。

2E-9 Torr まで下がったので開始。今日は (ひとつの皿に載せた) SiOx 試料を 2 つ。 20:10 終了。ふむ。

#4 [labo] 発注品

昨年 9 月に発注したテフロン被覆温度計をもう一本エビサワへ。

#5 [paper] Google Reader で拾った論文 (PRB 75)

Subwavelength imaging at infrared frequencies using an array of metallic nanorods:

silver の rod を用いて、IR で波長限界以下の imaging ができるという話。 具体的には 0.2um 間隔で並べた 20nm 径 6um 長の rod dot matrix を抜いて文字を書き、29〜33 THz (10um くらい) の電波をあてるとどのように結像されるかというのの計算。 さて実際に実験で実現されるかどうか。 表面プラズモンがキモなので、μ波あたりだとうまくいかないのかな。

Mean-field approach to Pb-mediated growth of Ge on Si(111): Comparison with experiment and kinetic Monte Carlo simulations:

surfactant mediated epitaxy のモデル計算。cluster からの Ge 脱離の barrier energy を導入することで、island 密度の coverage・温度依存性と その universality を再現できた、としている。

#6 [receipt] 紀伊国屋 BC 702 円

#7 [paper] 今日拾った論文 (JVSTB 24(4))

これは 33rd Conf. on Phys. and Chem. of Semiconducter Interfaces (PCSI2006) の論文集を兼。 でもそっち方面では拾わなかった。 keynote っぽいやつ はちょっと面白そうだったけど。

Performance of organic thin-film transistors:

この 20 年の有機トランジスタの review とのこと。 易動度とその劣化、閾電圧、立ち上がり、 on/off 比など。47 refs。

On microscopic compositional and electrostatic properties of grain boundaries in polycrystalline CuIn1-xGaxSe2:

CIGS の GB 付近の micro auger。 GB では Cu が欠乏し、ホールの再結合を妨げるのだということらしい。 二次電子放出率や CL のマップを SEM 像と重ね、 work function や再結合の様子の組成依存性についても議論。

Silicon resonant microcantilevers for absolute pressure measurement:

MEMS で作った共振型圧力計。 Q 値と共振周波数の両方をうまく使うと、1〜10^5 Pa くらいの圧力が測れそう、 という実測結果。吸着性のガスの場合はどうか?

Smoothing of polycrystalline copper with rough surface by oblique argon-ion irradiation:

北大のグループ。ISSP2003 でも発表しておられたような? 機械研磨した Cu 表面 (RMS 10.5 nm) に、RT で 1keV Ar を当てて表面粗さの AFM 測定。 70 deg で当てると、1E18 /cm^-2 な fluence で 8.9nm に減少したという結果。 あと 50nm 以上の高さを持つ部分の表面占有率〜という量も減少したとのこと。

#8 [labo] Si 切断

done。ダイヤモンドペンの軸先の真鍮の部分が木製の柄から取れてしまった。 こんど接着剤買ってこないと。
コメント [全部読む/投稿する]

以上、10 日分です。
タイトル一覧
カテゴリ分類
book
dept
issp
labo
paper
snap
stock
vsj
Powered by hns-2.19.5, HyperNikkiSystem Project

中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
RSS feed, 更新時刻, LIRS エントリ, アクセス制御 (解説)

中野のホームページへ