なかのにっき

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2007年01月31日(水) [n年日記]

#1 行き

原付。晴れ。セブンイレブンで「くまのプーさんパスタ皿」をゲット。

#2 [labo] 卒研練習

できたひとから順次喋ってもらってコメントをする。

風邪っぴきらしい矢田くん以外の 6 名のを見た。はあはあ。 明日は 15:00 から。

#3 [issp] 受理メール

合間を縫って perl スクリプト書き・英作文・発送準備。ML に RFC。 明日昼に発射予定。

#4 [paper] 今日拾った論文 (TSF 515(2))

ACSIN-8/ICTF-13 の proceedings 号。 拾いたいのが多くて困った。

図書館に 4 本注文。いつもすみません。

Mechanism of biaxial alignment in thin films, deposited by magnetron sputtering:

Genkiere さんたちの amorph. subst. への biaxial alignment の論文。 MgO, Cr のも出ている。 こちらは MC 計算を併用して、原因について考察している。 うーん読み読んどくか。

Dynamic behaviour of the reactive sputtering process:

Kubart さん @ Angstrom Labo. 動的過程の整理、 パラメータの変化速度と process curve の関係について。

The effect of argon pressure on the structural and photocatalytic characteristics of TiO2 thin films deposited by d.c. magnetron sputtering:

0.1〜1 Pa で変化させると RI が 2.5 から 1.9 に変化したとか。 post anneal して UV-VIS Trans, SEM, XRD, エタノール分解試験。

Discharge voltage measurements during reactive sputtering of oxides:

13 種の金属ターゲットで電圧を測ったという話。 Al, Mg, Ce, Y では酸化によって電圧が下がり、 Ag, Au, Cr, Cu, Nb, Pt, Re, Ta, Ti では電圧が上がったとのこと。

Study of the gas rarefaction phenomenon in a magnetron sputtering system:

Al の場合について model 計算と実測の比較。

#5 [issp] プログラム

担当のところの並べ替えとチェックをして送信。

#6 [labo] UHVSP

星くんにアンペア計算をしてもらう。RP の突入電流のマージンを見る必要があるかどうかは微妙なところだけど、念の為ポンプと機器類で 30A 取っておいた。 引き続き配線作業諸々も星くんにやっていただく。お疲れさまでした。

#7 帰り

原付。どうも体がダルい。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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